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设备用途：CKG-60三靶共溅薄膜制备系统金属和合金薄膜、半导体薄膜、磁性材料薄膜、氧化物和氮化物等电介质薄膜、新型功能薄膜、多层薄膜、多元弥散复合膜的制备。主要配置及特点：主要由不锈钢真空室，真空及测量系统，供气及流量控制系统，多样品转台
